光刻機原理 進來看看

1、光刻機制作芯片的過程，基本和“沖印照片”一樣。假設拍的是風景，膠片上會有曝光痕跡，先要在暗室裏顯影，讓風景在膠片上顯示出來。然後在紅光下通過放大機，把膠片上的風景投射到相紙上，讓相紙曝光。再通過相紙的顯影、定影、烘乾得到最終的照片。除了風景之外，“照片沖印”需要有膠片，有光源、放大機、相紙。

2、對光刻機來説，所謂“風景”就是設計好的集成電路圖（IC），“膠片”就是一塊石英板（光罩），用來記錄集成電路圖，“相紙”就是硅晶圓，“放大機”就相當於光刻機。

3、所不同的是，洗照片是放大，把小膠片放大到相紙上，光刻機是縮小，把電路圖縮小到晶圓上。

4、在光刻機領域，有三家國際大牌：荷蘭ASML（艾斯摩爾），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高端光刻機市場，荷蘭ASML是無可爭議的世界霸主，把第二名都甩得很遠，因為技術難度太高、需要的投資太大，尼康、佳能已經放棄EUV光刻機的研發。